振动传感器在半导体制造设备中的测量参数
亚纳米级振动控制
光刻机工作台需将外界振动影响控制在亚纳米级（如0.01mm振动可导致晶圆报废），传感器需检测0.1Hz-1kHz频段，灵敏度需达pC/g级。
关键参数
位移：直接反映光学平台位置偏差，需检测纳米级位移（如±0.5nm）。
加速度：高频振动惯性力影响部件定位，需测量0.1g以下微振动。
频率响应：覆盖设备固有频率（如2Hz-10kHz），避免共振放大振动。
环境与安装要求
温度波动需≤±2℃，湿度40-60%，振动加速度≤0.1g。
传感器需与振动台轴线同轴（偏差≤0.05mm），横向灵敏度需<1%。
校准与维护
每6个月校准一次，使用激光干涉仪（精度±0.001mm）验证线性度（偏差≤0.1% FS）。
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